Page 37 - กำหนดมาตรฐานผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม นาโนเทคโนโลยี เล่ม๔


มอก. 2691 เลม 4–2558

ี
่
ี
่
ั
ี
ตารางท ข.1 วธการวดและมาตรฐานทเกยวของ (ตอ)
่
ี
ิ
ั
พารามเตอร  วธวด มาตรฐานทเกยวเนือง
ิ
ี
่
ี
ิ
ี
่
่
องคประกอบ (ตอ) รามานสเปกโทรสโกป และสเปก (4) ISO 13084 : 2011, Surface chemical analysis-




โทรสโกปเชงโมเลกุล (Raman Secondary-ion mass spectrometry-Calibration of the
ิ
and molecular spectroscopies) mass scale for a time-of-flight secondary-ion mass
TGA-ความบรสทธ ิ ์ spectrometer
ุ
ิ
ิ
อลตราไวโอเลต-วิสเบลสเปกโทร (5) ISO 18114 : 2003, Surface chemical analysis-
ั
ิ
เมตร (UV-visible spectrometry) Secondary-ion mass spectrometry-Determination of
ี
SEM relative sensitivity factors from ion-implanted
NMR reference materials
ICP-OES
ICP-MS
ิ
ี
เคมผว SAM/AES (1) ISO/DTR 14187, Surface chemical analysis-
XPS Characterization of nanostructured materials
SIMS (2) ISO 18115 : 2001, Surface chemical analysis–
ิ
การถายภาพจําลองสามมตดวย Vocabulary
ิ

เทคนิคโทโมกราฟแบบหัววัด (3) ISO 24236 : 2005, Surface chemical analysis-Auger
อะตอม electrons spectroscopy–Repeatability and constancy
(3D atom probe tomography) of intensity scale
EDS (4) ISO 15471 : 2004, Surface chemical analysis–Auger
EELS electron spectroscopy-Description of selected


สเปกโทรสโกปแบบไอออน instrumental performance parameters
่
ํ
ั
พลงงานตา
(low energy ion spectroscopy)

-35-