Page 40 - กำหนดมาตรฐานผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม นาโนเทคโนโลยี เล่ม๔

มอก. 2691 เลม 4–2558


ั
ี
ิ
ตารางท ข.1 วธการวดและมาตรฐานทเกยวของ (ตอ)
ี
่
่
่
ี
ี
พารามเตอร  วธวด มาตรฐานทเกยวเนือง
่
่
ี
ี
ี
ั
่
ิ
ิ

เคมผว (ตอ) (20) ISO 18516 : 2006, Surface chemical analysis-Auger
ี
ิ
electron spectroscopy and X-ray photoelectron
spectroscopy-Determination of lateral resolution
(21) ISO 18117 : 2009, Surface chemical analysis-
Handing of specimens prior to analysis
(22) ISO 23812 : 2009, Surface chemical analysis-
Secondary ion mass spectrometry-Method for depth
calibration for silicon using multiple delta-layer
reference materials

่
ี
็
ิ
ประจทผว จุดไอโซอิเลกทรก (isoelectric point) (1) ISO 20988-1 : 2006, Measurement and
ิ
ุ
ื
การกระเจิงแสงจากการเคลอนท ่ ี characterization of particles by acoustic methods-
่
ในสนามไฟฟา Part 1 : Concepts and procedures in ultrasonic

(electrophoretic light scattering) attenuation spectroscopy
ิ
ิ
็
อเลกโทรฟอเรซส (electrophoresis)
็
ิ
ิ
อเลกโทรออสโมซส (electrosmosis)
อเลกทรกโซนิคแอมพลจูด
ิ
ิ
็
ิ
(electric sonic amplitude)

กระแสการสนของคอลลอยด
ั
่
(colloidal vibration current)
ความสามารถใน ยังไมมวิธมาตรฐานทใชสาหรบ
ี
ํ

ี

ั
่
ี
ิ
การละลาย การประเมนความสามารถในการ
ุ
ละลายของวัตถนาโนอยางจําเพาะ

เจาะจง อยางไรก็ตาม สามารถ ยังไมมมาตรฐานในขณะน ้ ี
ี
ประยุกตใชวิธวัดอนในการ


ื
่
ี
ี
ประเมนได เชน วิธการแยกสาร
ิ

ผานเยือแบบสมดุล วิธวัดโดย
่

ี
ICP-OES และ ICP-MS
-38-