Page 35 - กำหนดมาตรฐานผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม นาโนเทคโนโลยี เล่ม๔

มอก. 2691 เลม 4–2558


ี
ั
่
ิ
ตารางท ข.1 วธการวดและมาตรฐานทเกยวของ (ตอ)
ี
่
ี
ี
่
ี
่
่
ิ
ี
่
ี
ั
ิ
พารามเตอร  วธวด มาตรฐานทเกยวเนือง
ื


ั
ี
ํ
สถานะการเปน cryo-SEM หรอ cryo-TEM ดูในสวนของ “ขนาดอนุภาค” (ดานบน) สาหรบวิธวัด
ื
ิ
ั
ี
กอนเกาะแนน การกระเจงผนตามมมทความยาว (1) ISO/TC 24, Particle Characterization หรอ
ุ
่
หรอการเปนกอน คลนทแตกตาง (angle dependent ISO/TR 13097, Guide for the characterization of

ื
ื

่
่
ี
เกาะหลวม scattering at different wavelength) dispersion stability
ํ
ั
(aggregation/aggl SLS (2) ISO/DIS 12025, Nanotechnologies, พัฒนาสาหรบ

omeration state) SAXS ใชเปนกรอบในการพิจารณากําหนดการปลดปลอย


ุ
XRD วัตถนาโนจากผง
SANS (3) ISO 13322-1 : 2004, Particle size analysis-Image
ั
ี
ิ

่
่
วิธการทีเกียวของกับสมบตการ analysis method-Part 1 : Static image analysis
ไหล (rheology methods) methods

่

ื

การตกตะกอนดวยเครองปน
่
เหวียง
้
ี
การเลยวเบนของเลเซอร

(laser diffraction)
ิ
การวิเคราะหตดตามอนุภาคนาโน

รปราง SEM หรอ TEM หรอ SPM (1) ISO 16700 : 2004, Microbeam analysis-Scanning
ู
ื

ื
เทคนิคการกระเจิง electron microscopy-Guidelines for calibrating
image magnification
(2) ISO 13322-1 : 2004, Particle size analysis–Image
analysis method-Part 1 : Static image analysis
methods

-33-