Page 39 - กำหนดมาตรฐานผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม นาโนเทคโนโลยี เล่ม๔


มอก. 2691 เลม 4–2558

ี
่
ั
ี
ิ
ตารางท ข.1 วธการวดและมาตรฐานทเกยวของ (ตอ)
่
่
ี
ี
่
ี
ี
่
่
ิ
พารามเตอร  วธวด มาตรฐานทเกยวเนือง
ิ
ั
ี
เคมผว (ตอ) (12) ISO 18114 : 2003, Surface chemical analysis-
ี

ิ
Secondary ion mass spectrometry-Determination of
relative sensitivity factors from ion implanted
reference materials
(13) ISO 20341 : 2003, Surface chemical analysis-
Secondary ion mass spectrometry-Method for
estimating depth resolution parameters with
multiple delta-layer reference materials
(14) ISO 15472 : 2002, Surface chemical analysis-X-ray
photoelectron spectrometers-Calibration of energy
scales

(15) ISO 21270 : 2004, Surface chemical analysis-X-ray
photoelectron spectrometers-Linearity of intensity

scale

(16) ISO 24237 : 2005, Surface chemical analysis-X-ray
photoelectron spectrometers-Repeatability and

constancy of intensity scale

(17) ISO 15470 : 2004, Surface chemical analysis-X-ray

photoelectron spectrometers-Description of selected
instrumental performance parameters

(18) ISO 19318 : 2004, Surface chemical analysis-X-ray

photoelectron spectrometers-Reporting of methods

used for charge control and charge correction
(19) ISO/TR 18392 : 2005, Surface chemical analysis-

X-ray photoelectron spectrometers-Procedures for

determining backgrounds

-37-