Page 38 - กำหนดมาตรฐานผลิตภัณฑ์อุตสาหกรรม นาโนเทคโนโลยี เล่ม๔


มอก. 2691 เลม 4–2558

ิ
ี
ตารางท ข.1 วธการวดและมาตรฐานทเกยวของ (ตอ)
่
ี
่
ี
่
ั
ี
ี
่
ั
ิ
พารามเตอร  วธวด มาตรฐานทเกยวเนือง
่
่
ี
ิ
ี
ิ
ี
เคมผว (ตอ) รามานสเปกโทรสโกป และสเปก (5) ISO/TR 19319 : 2003, Surface chemical analysis-



โทรสโกปเชงโมเลกุล Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron
ิ
(Raman and molecular spectroscopy-Determination of lateral resolution,
spectroscopies) analysis area and sample area viewed by the analyser
(6) ISO 17973 : 2002, Surface chemical analysis-
Medium resolution Auger electron spectrometers-
Calibration of energy scales for elemental analysis
(7) ISO 18118 : 2004, Surface chemical analysis-Auger
electron spectroscopy and X-ray photoelectron
spectroscopy-Guide to the use of experimentally
determined relative sensitivity factors for the

quantitative analysis of homogeneous materials
(8) ISO 20903 : 2006, Surface chemical analysis-Auger
electron spectroscopy and X-ray photoelectron

spectroscopy-Methods used to determine peak

intensities and information required when reporting
results

(9) ISO/TR 18394 : 2006, Surface chemical analysis-

Auger electron spectroscopy-Derivation of chemical
information

(10) ISO 23830 : 2008, Surface chemical analysis-

Secondary ion mass spectrometry-Repeatability and
constancy of the relative intensity scale in static

secondary ion mass spectrometry

(11) ISO 17560 : 2002, Surface chemical analysis-

Secondary ion mass spectrometry-Method for depth
profiling of boron in silicon

-36-